国内光刻机厂家是否在雄安设厂？中国电子院发布澄清声明

"清华大学EUV项目澄清：国产光刻机工厂不在雄安，中国电子院发布声明"

最近，一则消息在各大视频平台迅速传播，声称清华大学的EUV项目已经成功将ASML的光刻机进行了巨大化，实现了光刻机的国产化，并宣称该项目已经在雄安新区落地。然而，中国电子工程设计院有限公司（以下简称中国电子院）于2023年9月18日在其官方微信上发布了一则澄清声明，指出该项目并不是网上传闻的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

据了解，北京高能同步辐射光源项目位于北京怀柔的雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施之一。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设，计划于2025年底投入使用。

那么，北京高能同步辐射光源项目的具体作用是什么呢？据了解，该项目的主要功能是通过加速器将电子束加速到6GeV（国内最高能量水平），然后将这些电子束注入到周长1360米的储存环中，以接近光速的速度维持其稳定运行。当电子束在储存环的不同位置经过弯转磁铁或各种插入件时，就会释放出稳定、高能量和高亮度的光，即同步辐射光。

尽管原先的消息存在一定的误解，但北京高能同步辐射光源项目仍然是我国在科技领域取得的一项重大成就，将为科研和技术创新提供强大的支持。

"中国电子院澄清：HEPS项目非光刻机工厂，而是科学实验装置"

中国电子院解释指出，北京高能同步辐射光源项目（HEPS）可被视为一台超精密、超高速、具有极强穿透能力的巨型X光机。该装置能够产生极细小的光束，可穿透物质并深入内部进行立体扫描，从多维度、分子到原子级别观察微观世界。HEPS是一项用于进行科学实验的大型科学装置，与传言中的光刻机工厂无关。

中国电子院进一步表示，该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇领导，并得到了中国电子院多个技术研究和设计团队的协同合作。从项目的可研立项到最终的项目落地，他们攻克了众多技术和工艺上的难关。目前，高能同步辐射光源项目的配套工程已经全面完成。

（图片来源：抖音、中国电子院）